» :: برق 23. مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتری
مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتری
چکیده
در این مقاله، در مورد چالشهای مختلف کار در ناحیه زیرآستانه ای در مدارهای با فناوری CMOS 65 نانومتر، بحث می شود. مدارهای گوناگونی برای یافتن بهترین آرایش در ناحیه کاری زیرآستانه ای مورد بررسی قرار می گیرد و در کار با ولتاژهای تغذیه بسیار پایین شبیه سازی می گردد. برای پشتیبانی از مباحث نظری انجام شده، آرایشهای گوناگون مداری مورد آزمایش و شبیه سازی قرار می گیرد. جنبه های گوناگون مدارهای فلیپ فلاپ با جزییات تشریح می شود تا بهترین توپولوژی برای استفاده در ولتاژهای تغذیه بسیار پایین و کاربردهای بسیار کم توان بررسی شود. نتایج شبیه سازی نشان می دهد مصرف توان در مدارهای پیشنهادی این مقاله، مقایسه با دیگر فلیپ فلاپ ها حداقل 23% کاهش می یابد. همچنین زمان راه اندازی و زمان نگهداری نیز بهبود می یابد.
برق 23. مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتری ...
futurearticle.ir/articles/40399Cached11 ا کتبر 2015 ... مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتری. چکیده. در این مقاله، در مورد
چالشهای مختلف کار در ناحیه زیرآستانه ای در مدارهای با فناوری ...
برق 23. مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتری - تمام ...
www.allfiles.blogsky.com/1395/04/28/post-6593/Cached18 جولای 2016 ... در این مقاله، در مورد چالشهای مختلف کار در ناحیه زیرآستانه ای در مدارهای با فناوری
CMOS 65 نانومتر، بحث می شود. مدارهای گوناگونی برای یافتن ...
دانلود مقاله : مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتری
isiarticles.com/article/53003Cachedمقاله ISI انگلیسی شماره 53003 - ترجمه شده - موضوع : فناوری CMOS - 5 صفحه - سال
انتشار ... دسته بندی موضوعی مقالات ISI · سایر موضوعات مهندسی برق و الکترونیک ·
فناوری CMOS ... مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتری ... توان در
مدارهای پیشنهادی این مقاله، مقایسه با دیگر فلیپ فلاپ ها حداقل 23% کاهش می یابد.
برق 23. مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتری - ISI
fileisi.ir/article/08/42673.htmlCached13 آگوست 2012 ... مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتریچکیدهدر این مقاله، در مورد
چالشهای مختلف کار در ناحیه زیرآستانه ای در مدارهای با فناوری CMOS ...
مقاله ترجمه شده مباحث جدید زیر آستانه ای در فناوری 65CMOS نانومتری
farafile.ir/.../مقاله-ترجمه-شده-مباحث-جدید-زیر-آستانه-ای-در-فناوری-65cmos-نانومتریCachedمقاله ترجمه شده مباحث جدید زیر آستانه ای در فناوری 65CMOS نانومتری ... دسته بندی:
فنی و مهندسی » برق، الکترونیک و مخابرات ... در این مقاله، در مورد چالشهای مختلف کار
در ناحیه زیرآستانه ای در مدارهای با فناوری CMOS 65 نانومتر، بحث می شود. ... توان در
مدارهای پیشنهادی این مقاله، مقایسه با دیگر فلیپ فلاپ ها حداقل 23% کاهش می یابد.
برق 23. مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتری
kingdom.dl19.ir/.../برق-23-مباحث-جدید-زیرآستانه-ای-در-فناوری-cmo.html
13 آگوست 2012 ... مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتریچکیدهدر این مقاله، در مورد
چالشهای مختلف کار در ناحیه زیرآستانه ای در مدارهای با فناوری CMOS ...
مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری نیمه هادى اکسید فلزى تکمیلى ...
collegeprojects.ir/articles/644Cached12 جولای 2016 ... New Subthreshold Concepts in 65nm CMOS Technology مباحث جدید زیرآستانه
ای در فناوری نیمه هادى اکسید فلزى تکمیلى 65 نانومتری رشته: برق و ... در مدارهای
پیشنهادی این مقاله، مقایسه با دیگر فلیپ فلاپ ها حداقل 23% کاهش می ...
برق ۲۳٫ مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتری
filegah.ir/برق-23-مباحث-جدید-زیرآستانه-ای-در-فناوری-cmo/Cached16 ژوئن 2016 ... در این مقاله، در مورد چالشهای مختلف کار در ناحیه زیرآستانه ای در مدارهای با فناوری
CMOS 65 نانومتر، بحث می شود. مدارهای گوناگونی برای یافتن ...
مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتری
firearticle.ir/.../مباحث-جدید-زیرآستانه-ای-در-فناوری-cmos-65-نان.htmlCached19 دسامبر 2014 ... برق 23. مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتری . ... ویرایش) پروژه
کارشناسی ارشد برق چکیده در این مقاله، جمع کننده کامل (FA) ...
مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتری | حرف نو!
neword.ir/article/2256.htmlCached5 آوریل 2015 ... مباحث جدید زیرآستانه ای در فناوری CMOS 65 نانومتری ... پروژه کارشناسی ارشد
برق. چکیده ... نتایج شبیه سازی نشان می دهد مصرف توان در مدارهای پیشنهادی این مقاله،
مقایسه با دیگر فلیپ فلاپ ها حداقل 23% کاهش می یابد. همچنین زمان ...